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        1. KRI 霍爾離子源 Gridless End-Hall

          1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
          離子源     霍爾離子源                                           射頻離子源                       考夫曼離子源                              自動控制器

          霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產品, 包含寬束霍爾型離子源和電源控制器, 整體設計, 易于系統集成, 霍爾離子源典型應用: 輔助鍍膜 IABD, 鍍膜預清潔 ISSP, 離子蝕刻等

          KRI 霍爾離子源 eH 系列

          霍爾離子源無柵極, 高濃度, 低能量寬束型離子源

          型號

          eH 200

          eH 400

          eH 1000

          eH 2000

          eH 3000

          離子束流

          2A

          5A

          10A

          10A

          20A

          離子動能

          30-300 V

          50-300 V

          100-300 V

          50-250 V

          50-250 V

          柵極直徑

          2.5”

          3.7”

          5.7”

          5.7”

          9.7”

          離子束

          > 45°散射

          KRI 霍爾離子源 eH 400

          霍爾離子源 eH 400
          尺寸:直徑= 3.7“ 高= 3”
          離子束動能: 50-300eV
          電流: 5a

          霍爾離子源 eh400

          KRI 霍爾離子源 eH 1000

          霍爾離子源 eH 1000
          尺寸:直徑= 5.7“ 高= 5.5”
          離子束動能: 50-300V
          電流: 10A

          霍爾離子源

          KRI 霍爾離子源 eH 2000

          霍爾離子源 eH 2000
          尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
          離子束動能: 50-300V
          電流: 10A 或 15A

          霍爾離子源eh2000

          霍爾離子源 eH 3000

          霍爾離子源 eH 3000
          尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
          放電電壓: 50-300V
          電流: 20A

          霍爾離子源eh3000

          霍爾離子源 eH 200

          eH200 是霍爾離子源型eH 系列中尺寸最小,低成本設計離子源

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