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        1. KRI 考夫曼離子源

          1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發生產考夫曼離子源, 霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.
          離子源     霍爾離子源                                           射頻離子源                       考夫曼離子源                              自動控制器

          考夫曼離子源創始人 Harold Kaufman

          1926 年在美國出生
          1951 年加入美國 NASA 路易斯研究中心
          1971 年考夫曼博士獲得美國宇航局杰出服務獎
          1978 年考夫曼博士成立了 Kaufman & Robinson,Inc 公司, 研發生產商用離子源

          KRI 射頻離子源 RFICP 系列

          射頻離子源, 提供高能量, 低濃度的離子束, 單次工藝時間更長, 適合多層膜的制備和離子濺鍍鍍膜

          型號

          RFICP 40

          RFICP 100

          RFICP 140

          RFICP 220

          RFICP 380

          離子束流

          >100 mA

          >350 mA

          >600 mA

          >800 mA

          >1500 mA

          離子動能

          100-1200 V

          100-1200 V

          100-1200 V

          100-1200 V

          100-1200 V

          柵極直徑

          4 cm Φ

          10 cm Φ

          14 cm Φ

          20 cm Φ

          30 cm Φ

          離子束

          聚焦, 平行, 散射

          KRI 考夫曼離子源 KDC 系列

          離子源通過加熱燈絲產生離子束, 低濃度高能量寬束型離子源

          型號

          KDC 10

          KDC 40

          KDC 75

          KDC 100

          KDC 160

          離子束流

          >10 mA

          >100 mA

          >250 mA

          >400 mA

          >650 mA

          離子動能

          100-1200 V

          100-1200 V

          100-1200 V

          100-1200 V

          100-1200 V

          柵極直徑

          1 cm Φ

          4 cm Φ

          7.5 cm Φ

          12 cm Φ

          16 cm Φ

          離子束

          聚焦, 平行, 散射

          KRI 霍爾離子源 eH 系列

          霍爾離子源無柵極, 高濃度, 低能量寬束型離子源

          型號

          eH 200

          eH 400

          eH 1000

          eH 2000

          eH 3000

          離子束流

          2A

          5A

          10A

          10A

          20A

          離子動能

          30-300 V

          50-300 V

          100-300 V

          50-250 V

          50-250 V

          柵極直徑

          2.5”

          3.7”

          5.7”

          5.7”

          9.7”

          離子束

          > 45°散射

          KRI 霍爾離子源 eH 400

          霍爾離子源 eH 400
          尺寸:直徑= 3.7“ 高= 3”
          離子束動能: 50-300eV
          電流: 5a

          霍爾離子源 eh400

          KRI 考夫曼離子源 KDC 75

          考夫曼離子源 KDC 75
          尺寸: 直徑= 5.5“ 高= 7.9”
          離子束動能: 100-1200 eV
          電流: 250 mA

          考夫曼離子源

          KRI 考夫曼離子源 KDC 10

          考夫曼型離子源 KDC 系列最小型號的離子源
          尺寸:直徑= 1.52“ 高= 4.5”
          離子束動能: 100-1200 ev
          電流: 10 mA

          考夫曼離子源  KDC 10

          KRI 考夫曼離子源 KDC 40

          考夫曼離子源 KDC 40
          尺寸: 直徑= 3.5“ 高= 6.75”
          離子束動能: 100-1200 eV
          電流: 120 mA

          考夫曼離子源 KDC40

          KRI 霍爾離子源 eH 1000

          霍爾離子源 eH 1000
          尺寸:直徑= 5.7“ 高= 5.5”
          離子束動能: 50-300V
          電流: 10A

          霍爾離子源

          KRI 霍爾離子源 eH 2000

          霍爾離子源 eH 2000
          尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
          離子束動能: 50-300V
          電流: 10A 或 15A

          霍爾離子源eh2000

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