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        1. KRI 霍爾離子源 eH 1000
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          KRI 霍爾離子源 eH 1000

          KRI 霍爾離子源 eH 1000
          上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 1000 高效氣體利用, 低成本設計提供高離子電流, 特別適合中型真空系統. 通常應用于離子輔助鍍膜, 預清洗和低能量離子蝕刻.
          尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 5.5”
          放電電壓 / 電流: 50-300V / 10A
          操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

          KRI 霍爾離子源 eH 1000 特性:
          可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時, 最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
          寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
          多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便; 無需水冷
          高效的等離子轉換和穩定的功率控制

          KRI 霍爾離子源 eH 1000 技術參數:

          型號

          eH1000 / eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO

          供電

          DC magnetic confinement

            - 電壓

          40-300V VDC

            - 離子源直徑

          ~ 5 cm

            - 陽極結構

          模塊化

          電源控制

          eHx-30010A

          配置

          -

            - 陰極中和器

          Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

            - 離子束發散角度

          > 45° (hwhm)

            - 陽極

          標準或 Grooved

            - 水冷

          前板水冷

            - 底座

          移動或快接法蘭

            - 高度

          4.0'

            - 直徑

          5.7'

            - 加工材料

          金屬
          電介質
          半導體

            - 工藝氣體

          Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

            - 安裝距離

          10-36”

            - 自動控制

          控制4種氣體

          * 可選: 可調角度的支架; Sidewinder

          KRI 霍爾離子源 eH 1000 應用領域:
          離子輔助鍍膜 IAD
          預清洗 Load lock preclean
          預清洗 In-situ preclean
          Direct Deposition
          Surface Modification
          Low-energy etching
          III-V Semiconductors
          Polymer Substrates

          其他產品
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