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        1. 霍爾離子源 eH 200
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          霍爾離子源 eH 200

          KRI 霍爾離子源 eH 200
          上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設計離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內, 例如研發分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡單是理想的生產工具.

          KRI 霍爾離子源 eH 200 技術參數:

          型號

          eH 200

          供電

          DC magnetic confinement

            - 電壓

          40-300V VDC

            - 離子源直徑

          ~ 2 cm

            - 陽極結構

          模塊化

          電源控制

          eHx-3005A

          配置

          -

            - 陰極中和器

          Filament or Hollow Cathode

            - 離子束發散角度

          > 45° (hwhm)

            - 陽極

          標準或 Grooved

            - 水冷

            - 底座

          移動或快接法蘭

            - 高度

          2.0'

            - 直徑

          2.5'

            -加工材料

          金屬
          電介質
          半導體

            -工藝氣體

          Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

            - 安裝距離

          6-24”

            - 自動控制

          控制4種氣體

          * 可選: 可調角度的支架; Filamentless; Sidewinder

          KRI 霍爾離子源 eH 200 應用領域:
          濺鍍和蒸發鍍膜 PC
          輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
          表面改性, 激活 SM
          直接沉積 DD

          其他產品
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