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        1. 霍爾離子源 eH 3000
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          霍爾離子源 eH 3000

          KRI 霍爾離子源 eH 3000
          上海伯東代理美國原裝進口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 最適合大型真空系統, 與友廠大功率離子源對比, eH 3000 是目前市場上最高效, 提供最高離子束流的離子源.
          尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
          放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
          操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機前體

          KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
          水冷 - 加速冷卻
          可拆卸陽極組件 - 易于維護; 維護時,最大限度地減少停機時間; 即插即用備用陽極
          寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
          多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統; 安裝方便
          高效的等離子轉換和穩定的功率控制

          KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術參數

          型號

          eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

          供電

          DC magnetic confinement

            - 電壓

          50-250V VDC

            - 離子源直徑

          ~ 7 cm

            - 陽極結構

          模塊化

          電源控制

          eHx-25020A

          配置

          -

           - 陰極中和器

          Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

           - 離子束發散角度

          > 45° (hwhm)

            - 陽極

          標準或 Grooved

           - 水冷

          前板水冷

           - 底座

          移動或快接法蘭

           - 高度

          4.0'

           - 直徑

          5.7'

           - 加工材料

          金屬
          電介質
          半導體

           - 工藝氣體

          Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

           - 安裝距離

          16-45”

           - 自動控制

          控制4種氣體

          * 可選: 可調角度的支架;

          KRI 霍爾離子源 eH 3000 應用領域
          濺鍍和蒸發鍍膜 PC
          輔助鍍膜 ( 光學鍍膜 ) IBAD
          表面改性, 激活 SM
          直接沉積 DD

          其他產品
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