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        1. KRI 考夫曼離子源 KDC 100
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          KRI 考夫曼離子源 KDC 100

          KRI 考夫曼離子源 KDC 100
          上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 100 中型規格柵極離子源, 廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產設備中, 考夫曼離子源 KDC 100 采用雙陰極燈絲和自對準柵極, 標準配置下離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 400 mA.

          KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術參數:

          型號

          KDC 100

          供電

          DC magnetic confinement

           - 陰極燈絲

          2

           - 陽極電壓

          0-100V DC

          電子束

          OptiBeam™

           - 柵極

          專用, 自對準

           -柵極直徑

          12 cm

          中和器

          燈絲

          電源控制

          KSC 1212

          配置

          -

           - 陰極中和器

          Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

           - 安裝

          移動或快速法蘭

           - 高度

          9.25'

           - 直徑

          7.6'

           - 離子束

          聚焦
          平行
          散設

           -加工材料

          金屬
          電介質
          半導體

           -工藝氣體

          惰性
          活性
          混合

           -安裝距離

          8-36”

           - 自動控制

          控制4種氣體

          * 可選: 可調角度的支架

          KRI 考夫曼離子源 KDC 100 應用領域:
          濺鍍和蒸發鍍膜 PC
          輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD
          表面改性, 激活 SM
          離子濺射沉積和多層結構 IBSD
          離子蝕刻 IBE

          其他產品
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