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        1. KRI 考夫曼離子源 KDC 10
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          KRI 考夫曼離子源 KDC 10

          KRI 考夫曼離子源 KDC 10
          上海伯東代理美國原裝進口 KRI 考夫曼離子源 KDC 10: 考夫曼型離子源 Gridded 系列最小型號的離子源. 適用于集成在小型的真空設備中, 例如預清洗, 離子濺射, 離子蝕刻. 在 <1000eV 低能量, 通 Ar 氬氣時離子蝕刻的能力顯著提高.KDC 10 離子源低損傷, 寬束設計, 低成本等優點廣泛應用在顯微鏡領域, 標準配置下 KDC 10 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 10mA.

           KRI 考夫曼離子源 KDC 10 技術參數

          型號

          KDC 10

          供電

          DC magnetic confinement

           - 陰極燈絲

          1

           - 陽極電壓

          0-100V DC

           - 柵極直徑

          1cm

          中和器

          燈絲

          電源控制

          KSC 1202

          配置

          -

           - 陰極中和器

          Filament, Sidewinder Filament  或LFN 1000

           - 架構

          移動或快速法蘭

           - 高度

          4.5'

           - 直徑

          1.52'

           - 離子束

          集中
          平行
          散設

           -加工材料

          金屬
          電介質
          半導體

           -工藝氣體

          惰性
          活性
          混合

           -安裝距離

          2-12”

           - 自動控制

          控制4種氣體


          KRI 考夫曼離子源 KDC 10 應用領域
          離子清洗, 顯微鏡拋光 IBP
          濺鍍和蒸發鍍膜 PC
          輔助鍍膜(光學鍍膜) IBAD
          表面改性, 激活 SM
          離子濺射沉積和多層結構 IBSD
          離子蝕刻 IBE

          其他產品
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