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        1. KRI 考夫曼離子源自動控制器 Power Supply and Control
          閱讀數: 8852

          KRI 考夫曼離子源自動控制器 Power Supply and Control


          KRI Ion Source Power Supply and Power Pack Controllers 功率控制器

          KRI Ion Source 應用領域:

          無柵極等離子源技術
          ----End-Hall 離子/等離子源
          有柵極離子源技術
          ----RFICP 離子源
          ----DC 離子源
          電子源
          技術
          ----燈絲
          ----中空陰極 (Hollow cathode)
          ----等離子中和器
          單機應用
          ----直流電源 (DC power)
          ----射頻電源 (RF power)

          有多個模組組成,模組的特性取決于功率、頻率、電壓、電流和控制方式,大多數模組都滿足 CE 和 CoHS 標準。

          監控:監視器
          穩定輸出:設置的最優化
          狀態診斷:用戶直接獲取
          參數存儲:準確保存

          連續性和穩定性
          功率控制器能夠在緊急情況下比如載入高能量的等離子體、短路、電流過沖、電壓過沖和功率過沖的情況,實現保護功能。確保在運行沉積和刻蝕工藝時進行不間斷的操作。通過數顯的面板,可以即時觀測和控制工藝參數和狀態資訊。

          KRI Individual Power Supply Controller 獨立的功率控制器
          功率控制器可以單獨使用也可以集成到其它功率包中,能提供直流、交流和射頻功率。
          AC Power 交流電源

          交流電源輸出一個低頻的直流信號,適用于低阻抗負載,比如驅動類似于燈絲這樣的發熱原件,通過大的功率加熱燈絲到發射熱電子的溫度。
          交流電源比直流電源更有利于燈絲壽命的延長
          軟起功能有助于平穩的提高燈絲溫度從冷起到電子發射的溫度

          型號:
          FC 1000
          FC 1006
          DC Power 直流電源

          直流電源通常應有在等離子體輝光放電、偏壓和離子加速??商峁浊叩妮敵龉β?,電壓范圍 80~1000 V。典型應用是用于離子、等離子和電子源的電極和襯底偏壓。
          對陽極施以電壓點燃和維持等離子放電
          對等離子施以偏壓去定量離子能量
          對離子光柵施以偏壓去撲捉和加速離子
          對陰極施以電壓獲得電子流
          輸出的電壓、電流和調節模式可選,可更具需要選擇輸出值像等離子電位、離子能量、電子流和離子軌道等參數。

          RF Power 射頻電源
          射頻電源產生一個射頻信號,適用于低阻抗的電磁負載,典型應用是驅動射頻天線將能量輻射進等離子腔室。通過感應耦合的方式射頻功率產生和維持一個高密度的等離子。通過自動阻抗匹配使功率大的傳輸最優化,此外設計上使電容耦合和功率衰減最小化。

          型號:
          RF 1000
          RF 1500
          氣體控制器:
          KRI 氣體控制器提供功率和控制多路品質流量計,能夠使用于不同的氣體和氣體混合物,而且可以和幾乎所有的不同制造商的模組相容,數字顯示模式。使用者可以自行設置流量并有存儲功能。

          型號: GC 1000
          自動系統控制器:

          是一個可程式設計的單元,能集成到電源模組中去提供完美的功率控制。該控制器采用獨有的通信協定與功率模組進行快捷的通信,實現控制功能。
          它能夠自動選擇最優的模式去校準等離子負載,達到最穩定的狀態,同時可以選擇回饋模式。能存儲多個工藝程序,同時控制多個 MFC。

          自動系統控制器:
          是一個可程式設計的單元,能集成到電源模組中去提供完美的功率控制。該控制器采用獨有的通信協定與功率模組進行快捷的通信,實現控制功能。
          它能夠自動選擇最優的模式去校準等離子負載,達到最穩定的狀態,同時可以選擇回饋模式。能存儲多個工藝程序,同時控制多個MFC。

          KRI Integrated Power Pack Controller 電源模組集成包
          電源模組集成包有獨立的電源模組衍生而來,因為 KRI 的獨立電源模組是一種標準的模組,所以這些模組能夠容易的集成到自動、多功能的功率包中。集成包是一個強有力的工具,能夠簡化等離子、離子和電子源的操作,最大的優點是可以方便的實現功率控制的最優化。

          當經常應用在如下的場合:
          1. 工藝工程師想實現寬范圍的工藝設計和優化,渴望確保參數的重復性,工藝可控
          2. 生產經理想實現一個簡單的命令操作,使工藝參數快速穩定
          3. OEM 想實現高的集成度從而降低成本
          4. 從事薄膜表面和納米結構的科研工作者想實現靈活、精確的工藝控制

          eH Plasma Power Pack Controller---eH 等離子功率集成包
          eH 等離子功率集成包用于驅動 end-Hall 離子源,它由電子發射模組、等離子放電模組和自動系統控制模組組成,結構緊湊、重量輕便。適用于材料工藝中要求高效、穩定和精確的電子或離子源的功率控制。

          它能給 end-Hall 等離子源的陽極或陰極提供功率,使用者可根據需要設置陽極的離子密度和離子能量,同樣的使用者也可以界定陰極的電子流參數。eH Plasma Power Pack 能夠跟蹤離子流,自動發射電子確保電中性。

          eH Plasma Power Pack 有自我保護功能,同時它是一個快速反應的功率源,可以在幾秒鐘內點火產生等離子,并在幾秒鐘內使離子束達到穩定??梢源鎯Χ鄠€工藝程序、控制多個MFC確保對多種氣體和氣體混合物的精確控制。
          使用者能容易的設置各種參數和模式、狀態,面版上會顯示出設定值、運行值、功能表存儲資訊和工作狀態資訊。

          KRI RFICP Ion Power Pack Controller 射頻感應耦合等離子功率集成包
          RFICP Ion Power Pack Controller 用于驅動有柵極離子源,由中和器模組、放電模組、偏壓模組和加速模組組成,這些模組集成在一個 19” 的集成包中。

          RFICP Ion Power Pack Controller 給離子源的射頻線圈、離子光學和中和器提供電源,將射頻功率耦合到輝光放電腔室,產生高密度的等離子體。配有自動阻抗適配器實現最優化,用戶可以選擇離子能量和離子密度來滿足工藝的要求。廣泛用于沉積和刻蝕工藝中。
          射頻的額定功率 0.5 KW 或更高,中和器的額定功率 0.5 A 或更高。
           

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